[09S402]【科管局補助】半導體製程技術實作 | 竹科管理局常見問答
![[09S402]【科管局補助】半導體製程技術實作](https://i.imgur.com/9VtOEt3.jpg)
半導體製程原理與流程介紹。2.藉由簡易的NMOS實作，學員可實際操作半導體相關的設備，如爐管、黃光、清洗蝕刻、量測及鍍膜設備等，並於課程中做進一步 ...
上課時間：
109/7/07~109/7/28，每週二 09:30~16:30，共4天24小時
課程費用： (以下費用已由竹科管理局補助80%)
4000元 (科學園區廠商優惠價格需送出報名表後，系統發出報名成功回函確認金額。)
課程目標：
1.半導體製程原理與流程介紹。 2.藉由簡易的NMOS實作，學員可實際操作半導體相關的設備，如爐管、黃光、清洗蝕刻、量測及鍍膜設備等，並於課程中做進一步相關設備及製程原理的解說，使初步接觸半導體的學員能對半導體製程有更進一步的認識。
課程特色：
1.可實際操作半導體製程相關設備。 2.自己做好的晶圓可攜帶回家。
修課條件：
大專以上理工科系畢業，對本課程有興趣者。 半導體產業暨相關系統業者之在職人士或有相關技術需求者。
課程大綱：
1.半導體製程概論 2.NMOS製程流程解說（NMOS Process Introduction) 3.標準清洗 (Wafer Clean) 4.Field Oxide氧化製程(High Temperature Oxidation-Field Oxide) 5.Nanospec、橢圓儀厚度量測 6.黃光製程，第一道光罩 (Photo-Lithography MASK I) 7.BOE濕蝕刻(Wet Etching) 8.高溫磷擴散(Phosphorous Diffusion) 9.四點探針(4 point Probe) 10.氧化矽蝕刻 (Oxide Etching) 11.Gate Oxide 氧化製程(High Temperature Oxidation-Gate Oxide) 12.黃光製程，第二道光...
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